ช้นเคลือบ PVD ซึ่งชั้นเคลือบตะกอนไอทางกายภาพ เป็นหลักโดยตกตะกอนการระเหยอาร์คไฟฟ้าหรือแมกนีตรอนสปัตเตอริง

     ชั้นเคลือบที่ำทำมาจากเทคโนโลยี HIPIMS กับ HIPIMS+ได้ชั้นฝิล์มเรียบเนียนและไม่มีบกพร่อง

     ช้นเคลือบ PVD ซึ่งชั้นเคลือบตะกอนไอทางกายภาพ เป็นหลักโดยตกตะกอนจากการระเหยอาร์คไฟฟ้าหรือแมกนีตรอนสปัตเตอริง แมกนีตรอนสปัตเตอริงที่เพาเวอร์สูง (HIPIMS)เป็นวิธีที่สามของPVDชุบเคลือบ (ชุบเคลือบไอออนอาร์คไฟฟ้าและแมกนิตรอนสปัตเตอริงเป็นวิธีสองชนิดอื่นของPVDชุบเคลือบ

     เทคโนโลยี HIPIMS ยืนยันว่า ประโยชน์ของอาร์คไอออนสูง(เช่นการระเหยอาร์คไฟฟ้า)ร่วมกับประโยชน์ของแมกนิตรอนสปัตเตอริงเป็นไปได้ผลของสองอย่างที่ร่วมกันคือ สามารถผลิตฝิล์มที่เรียบเนียนสวยงาม

     เทคโนโลยี HIPIMS เหมาะกับกัดกรดมาก เนื่องจากมีเพาเวอร์สูงสุดเป็น 8 เมกกะวัตต์ออะตอมของ HIPIMS สปัตเตอริงจะเข้าไปในแผ่นพื้นทำให้ชั้นเคลือบเรียบเนียน มันยังมีการยึดเกาะที่เป็นชั้นทรงกระบอกที่แข็งแรง ที่จริง มันใช้เทคโนโลยีมาเคลือบก็เป็นไปได้ แต่อัตราการตะกอนต่ำกว่าเทคโนโลยีสปัตเตอริงของปัจจุบันนี้

      ตอนนี้ ฮุยเฉิงแวคคั่มบริษัทเราการวิจัยและพัฒนาเทคโนโลยีใหม่มาแทนเทคโนโลยีHIPIMS คือเทคโนโลยี HIPIMS+ เทคโนโลยีนี้เหมาะกับชั้นเคลือบมาก มันมีอัตราการตะกอนสูงกว่าการระเหยไอออนอาร์ค นี่ทำให้เทคโนโลยีสามารถใช้กันอย่างแพร่หลายที่ด้านอุตสาหกรรม อีกอย่างก็คือ เทคโนโลยี HIPIMS+สามารถใช้วัสดุได้เป็นอย่างดี เวลาที่รักษาความแขงที่สูงนั้นมีความเค้นที่ปรับดี ชั้นเคลือบ HIPIMS+ บางอย่างใช้เหมาะกับชั้นเคลือบที่อุณหภูมิต่ำมีชั้นเคลือบตะกอนไอทางกายภาพที่หลากหลายสาารถประยุกต์ใช้ในเทคโนโลยี HIPIMS+อย่างเช่น TiN TiAlN TiCN CrN Cr2N

     HIPIMS+ผ่านการทดสอบแสดงออกมาให้เห็นว่า มันใช้เหมาะกับแม่พิมพ์ โมดูล แผ่นมิลลิ่ง เกลียวรถแผ่นมีดเหลา มิลลิ่งและก๊อกน้ำ เทคโนโลยี HIPIMSและ HIPIMS+ทั้งสองอย่างก็สามารถทำฝิล์มที่เรียบเนียนและไม่มีบกพร่อง ก็สามารถประยุกต์ใช้ที่อุปกรณ์ชุบเคลือบสูญญากาศการผลิตของฮุยเฉิงแวคคั่ม ก็สามารถอัพเกรดจากPVDชุบเคลือบอุปกรณ์

เทคโนโลย