ชีพจรเพาเวอร์อุปทานแบบสองขั้ว

ชีพจรเพาเวอร์อุปทานแบบสองขั้ว

การเปลี่ยนรูปร่างคลื่นสามารถช่วยเพิ่มความแม่นยำ กลายเป็นชีพจรเพาเวอร์อุปทานแบบสองขั้วของการออกแบบจากระบบสองขั้วนิเสธ

>> คลิกรายละเอียด
เพาเวอนร์สูงชีพจรเพาเวอร์อุปทาน

เพาเวอนร์สูงชีพจรเพาเวอร์อุปทาน

การะตุ้นพลาสม่าที่เป็นความแน่นสูงสามารถรับประกันคุณภาพของฝืล์มชุบได้ เพาเวอนร์สูงชีพจรท่อแมกนีตรอนสปัตเตอริง(HIPIMS)เพาเวอร์อุปทานสามารถช่วยคุณได้รับผลฝิล์มที่ยอดเยี่ยม

>> คลิกรายละเอียด
เอียงอัดเพาเวอร์อุปทาน

เอียงอัดเพาเวอร์อุปทาน

งานแมกนีตรอนสปัตเตอริงทุกประเภทสามารถได้สนับสนุนจากเอียงอัดเพาเวอร์อุปทาน อย่างเช่น ชุดเอียงอัดเพาเวอร์อุปทานTruPlasma Bias 3000/4000 ใช้ DC กระแสตรงเพาเวอร์อุปทานที่ใช้กันอย่างแพร่หลายและขั้นสูง ไม่ว่าประยุกต์ใช้ที่เป็นวัสดุจะต้องการแก้ไขและการตะกอนของชั้นชุบเอียงอัด หรือเป้าหมายทุกชนิดที่ใช้

>> คลิกรายละเอียด
อาร์คแหล่งจ่ายไฟ

อาร์คแหล่งจ่ายไฟ

ประยุกต์ใช้อาร์คไฟฟ้าชุบไอออนสุญญากาศได้รับฝิล์มเคลือบแข็งที่ดี

>> คลิกรายละเอียด
RF แหล่งจ่ายไฟฟ้า

RF แหล่งจ่ายไฟฟ้า

ใช้ที่ผลิตภัณฑ์มหภาคที่เป็นงานฝีมือไมโคร ชุดความถี่วิทยุ (RF)แหล่งจ่ายไฟฟ้าสามารถทำให้ฝีมืองานแปรรูปมีเสถียรภาพมากขึ้น ดังนั้น ถูกนำมาใช้ที่การผลิตของไมโครองค์ประกอบเวลาทีเพาเวอร์อุปทานอื่นไม่สามารถทำงานได้ตามต้องการนั้น ชุดความถี่วิทยุ (RF)แหล่งจ่ายไฟฟ้านี้สามารถช่วยงานทำได้อย่างประสบความสําเ

>> คลิกรายละเอียด
MFแหล่งจ่ายไฟฟ้า

MFแหล่งจ่ายไฟฟ้า

รับประกันผลิตภัณฑ์เฉพาะที่เป็นพื้นที่ขนาดใหญ่และอัตราสปัตเตอริงสูง ข้อดีของMFแหล่งจ่ายไฟฟ้า คือเปริยบเทียบกับชุด DC เพาเวอร์อุปทาน MFแหล่งจ่ายไฟฟ้า มีเสถียรภาพมากขึ้นเปริยบเทียบกับชุด HF เแหล่งจ่ายไฟฟ้า MFแหล่งจ่ายไฟฟ้าโซลูชี่นการแก้ไขประหยัดมากขึ้นMFแหล่งจ่ายไฟฟ้าเป็นชิ้นส่วนหลักของอุปกรณ์กร

>> คลิกรายละเอียด
DCแหล่งจ่ายไฟ

DCแหล่งจ่ายไฟ

เทคโนโลยีพลาสม่ากระตุ้นเป็นเทคโนโลยีขั้นต้นที่ประหยัดที่สุด ชุดพลาสม่ากระตุ้นกระแสตรงเพาเวอร์อุปทานสามารถใช้ที่ระบบขั้วลบเดียวและระบบขั้วลบคู่ของแมกนีตรอนสปัตเตอริง

>> คลิกรายละเอียด